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        高束流射頻等離子體源 您當前的位置: 首頁 > 產品中心 > 等離子技術 > 高效射頻等離子體源 > 高束流射頻等離子體源

        產品概述 Product Overview

        FERMI-RFPS-200是費勉儀器公司最新生產的一種高效射頻等離子體源,通過線圈式結構,能在真空腔體內激發產生等離子體,激勵氣體種類包括但不限于H2、N2、O2、稀有氣體等,具有更好的穩定性以及更精確的操控性,廣泛應用于分子束外延系統(MBE)中氮化物生長、氮原子注入和摻雜、氧化物生長、氧原子的注入和摻雜、氫化物生長以及氫原子表面清洗等。


        規格說明 Specification

        ● 高效穩定的氮化物、氧化物、氫化物生長

        ● 精確的操控性能,簡單易用

        ● 可以根據需求更換引出端口

        ● 內有原子篩選孔,使離子體盡可能少的到達襯底

        ● 適用于MBE、真空解理鍍膜、氫原子襯底清洗等系統


        類型 FERMI-RFPS-200
        真空兼容性 CF100標準法蘭
        氣體負載
        N2,H2 O2,H2
        離子產生區材料
        PBN 石英
        冷卻方式
        水冷
        進氣裝置
        VCR1/4接頭
        真空工作距離
        100-200mm
        射頻匹配器
        13.56MHz/500瓦
        水冷流速
        >1 L/min
        手動、自動射頻匹配器
        可選
        等離子體光譜檢測
        可選


        測試曲線圖 Test Curve

        原子氫襯底脫氧處理及外延測試:

        MBE生長用射頻離子源實際案例:真空解理鍍膜系統






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