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MBE-1000Cluster全自動傳樣系統
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產品概述 Product Overview
費勉儀器推出了MBE-1000分子束外延系統，可進行5×3''，4×4''，單片6'', 單片8''襯底外延生長。該系統可實現全自動傳樣和生長。生長室采用雙溫區襯底加熱，實現生長溫度均勻可控。MBE-1000系統包含10個蒸發源端口和10個蒸發源擋板端口，可實現復雜結構薄膜的精確逐層生長。
MBE-1000全自動直線傳樣系統采用直線機械手傳樣，可進行10英寸襯底托盤在進樣室，預處理室，生長室和出樣室之間傳遞。
根據客戶需求，費勉儀器提供不同型號的熱蒸發源、裂解源、電子束蒸發源和氣體源。系統可安裝RHEED、BFM、RGA等，實現對薄膜生長的原位監控。系統還可以搭配費勉儀器的MBE束流監測光譜系統，實現可重復性和批量性的完全自動化生長。費勉儀器提供MBE操作軟件，包括生長工藝程序編寫、自動生長控制和不間斷數據記錄三大功能，可以執行生長工藝程序控制擋板運動，源爐溫度，襯底溫度，襯底旋轉速度和方向。控制軟件包括溫度曲線，真空壓力曲線，電源輸出功率曲線，各系統間傳樣等工藝需求功能。
技術規格 Mechanical Specifications
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配置 | MBE-1000 |
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生長室 |
腔體尺寸 |
900mm I.D. |
| 極限真空 |
<2×10-10mbar |
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| 液氮冷屏 | 標配 | |
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冷屏通液氮后極限真空 |
<5×10-11mbar |
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襯底加熱器最高溫度 |
1000℃ |
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襯底加熱器溫度穩定性 |
PID控制，±0.5℃ |
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襯底最大尺寸 |
8inch |
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襯底旋轉 |
40RPM |
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蒸發源配置 |
CF150×7／C100×3 |
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獨立的蒸發源擋板 |
電機驅動 |
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離子規 |
1×10-3~2×10-11mbar |
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烘烤溫度 |
200℃ |
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| 預處理 | 極限真空 |
<8×10-11mbar |
| 液氮冷屏 | 標配 | |
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預處理加熱器最高溫度 |
450℃ |
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| 離子規 |
1×10-3~2×10-11mbar |
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| 進樣室 | 極限真空 |
<1×10-8mbar |
| 腔體水冷夾層 | 選配 | |
| 樣品停放臺 | 15個 | |
| 紅外烘烤燈 | 選配 | |
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全量程規 |
1×103~5×10-9mbar |
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| 系統控制 |
觸摸屏操作面板 |
加配 |
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生長工藝程序編寫 |
加配 | |
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自動生長控制 |
加配 | |
| 不間斷數據記錄 | 加配 | |
| 報警保護功能 | 加配 | |
| 聯鎖功能 | 加配 | |
| 選配 | 出樣室 | 選配 |
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CCD |
選配 | |
| 手套箱 | 選配 | |
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磷回收系統 |
選配 | |
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襯底紅外測溫系統 |
選配 | |
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真空照明系統 |
選配 | |
| SMS | 選配 | |
| MBE束流監測光譜系統 | 選配 |
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| MBE-1000 配套蒸發源 | ||
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查看詳情 |
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