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        高溫蒸發源 您當前的位置: 首頁 > 產品中心 > 薄膜制備 > 部件產品 > 蒸發源 > 高溫蒸發源

        產品概述 Product Overview

        高溫蒸發源設計用于2000°C以下的超高真空系統運行。陶瓷支撐加熱元件的概念在這里不再有效,因為:大多數陶瓷在如此高的溫度下是半導的,因此很難絕緣;PBN在1500°C以上分解顯著。
        為了克服這些問題,制作一種自支撐加熱絲,成為開發高溫蒸發源的關鍵。有了這種由粗鎢絲制成的自支撐加熱絲,更高版本的高溫蒸發源甚至可以達到2000°C。
        為防止加熱元件對法蘭的輻射加熱,同時能夠在最大功率運行時冷卻電極,高溫蒸發源配置了一個內置電極水冷套。同時,為了防止腔室被輻射加熱,建議增加外置水冷套。


        規格說明 Specification

        ● 加熱系統:輻射加熱,W絲
        ● 兼容Oxide MBE
        ● 溫度穩定性:≤0.1%,取決于PID控制器
        ● 水冷系統:內置電極水冷,和選配外置水冷
        ● 超高真空兼容,極限真空10-11mbar

        法蘭尺寸 坩堝尺寸 工作溫度 最大除氣溫度 熱電偶 精確度 型號
        NW38CF(O.D. 2.75”)
        10 cc
        800~1800℃ 1900℃ C ±0.1%
        E38HT
        1000~2000℃ 2000℃ C E38UT


        測試曲線圖 Test Curve

        ——————    功率測試    —————— ——————    束流溫度曲線    ——————



        產品尺寸 Dimension Drawing





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        標簽: evaporators
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